产品介绍：
本设备可在柔性薄膜上溅射镀制多层金属、氧化物、陶瓷等薄膜。所镀材料应用领域极广。可制备柔性电路板、ITO透明导电薄膜、Low-E低辐射薄膜、EMI电磁屏蔽薄膜、太阳能光热转换陶瓷涂层薄膜等。

技术参数：
  基带幅宽：400～1600mm
  基带厚度：15～250µm
  真空系统配置：分子泵，罗茨泵，机械泵
  基带加热温度：150℃
  冷辊冷却温度：-25℃
  镀膜基带走速：0.5～4m/min